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俄罗斯宣布研发X射线光刻机

时间:2022/4/6 15:25:13 | 作者:chenp | 来源:电脑报

据外媒报道,近日俄罗斯莫斯科电子技术学院(MIET)已经接下了贸工部的6.7亿卢布资金(约合5100万元),准备研发制造芯片的光刻机,并号称该款光刻机的工艺可以达到EUV级别,但技术原理完全不同,他们研发的是基于同步加速器或等离子体源的无掩模X射线光刻机。

 

 

 

 

“MIET”是MIET高科技领域的全新领域实验室。现代、对教育过程的认识教育以及科学和工业的俄罗斯独特的集成,使MIET成为和纳米电子电信、微电子和信息技术领域培训的专家领导者是大学最强大的三所大学的发明者之一,是莫斯科国立大学的重要一员位的俄罗斯大学高等教育之一。

如今俄罗斯的芯片制造产业受到俄乌局势影响,目前提供高端芯片制造能力的韩国和中国台湾,提供光刻胶等关键芯片制造材料和设备的日本,已经宣布禁止向俄罗斯出口被美国列入出口管制清单的物品。这些动作切断了俄罗斯获取高端芯片以及自主生产芯片所需的材料和设备的渠道。

而说到EUV光刻机设备,现如今只有荷兰的ASML公司能够生产和制造,因为其涉及到了技术专利过多,而且供应链也来自于各个国家,所以想通过单纯的仿造和学习,很难有所突破,尤其是技术专利的问题。所以这也有了当初ASML说过的话“给图纸也造不出”。

据称此次俄将准备研发EUV光刻机设备,不过此EUV光刻机非ASML的EUV光刻机。因为俄研发的EUV光刻机设备是基于同步加速器的无掩模X射线光刻机设备。相比于ASML得EUV光刻机少了光掩模版,可以直写光刻机,这一点可以节省一部分的成本费用。

而从技术角度来说,X射线光刻机的波长介于0.01nm到10nm之间,分辨率方面也要比ASML的EUV光刻机更高。正是因为成本降低的同时分辨率提升,所以外媒也表示这方面连ASML也做不到。

但是说到这里就需要考虑另外一个现实,X射线光刻机虽然理论角度比EUV光刻机更优秀,但纵观全球范围内,X射线光刻机都未能实现大规模量产。并不是因为该项技术是首次提出,而是因为诸多国外企业在经过研发和生产以后,其生产的效率远不如ASML的光刻机,所以一直未能大规模量产,研发的国家当中也包括我国。

不过全球范围内没有量产的成功案例,并不意味着俄罗斯就会失败。虽然其研发能力并不是全球顶尖,但是当地企业内却有着大量的科研人才。华为在俄当地的研发中心里也有不少来自于当地的科研人才。甚至有消息表示,华为的3G技术,就是因为俄的一位数学家提供的算法所实现的。

也有人吐槽投资6.7亿卢布的资金不够,但这毕竟是首批投入资金,而该项目也是长期研发工作,所以未来还会进一步扩大规模。再加上当地丰富的人才资源,所以X射线光刻机的研发也并不一定会比想象中的更困难。

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